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Profil
| Derzeitige Stellung | Derzeit ohne wiss. Stellung |
|---|---|
| Fachgebiet | Atom- und Molekülphysik, Laserphysik,Plasmaphysik,Oberflächenphysik |
| Keywords | EUV Light Source for HVM Lithography, Next Generation Lithography, Laser Produced Plasma, Short-Pulse High-Power CO2 laser, Sn Plasma |
Aktuelle Kontaktadresse
| Land | Japan |
|---|---|
| Ort | Hiratsuka |
| Universität/Institution | Gigaphoton Inc. |
| Institut/Abteilung | EUV Group |
| Website | www.gigaphoton.com |
Gastgeber*innen während der Förderung
| Prof. Dr. Mitsuo Maeda | Department of Electrial Engineering, Kyushu University, Fukuoka |
|---|---|
| Beginn der ersten Förderung | 01.12.1995 |
Programm(e)
| 1995 | Forschungsstipendien-Programm der Japan Society for the Promotion of Science (JSPS) |
|---|