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Profil
| Derzeitige Stellung | Professor W-3 und Äquivalente |
|---|---|
| Fachgebiet | Herstellung und Eigenschaften von Funktionsmaterialien,Halbleiterphysik,Mineralogie und Kristallographie |
| Keywords | Molekularstrahlepitaxie, Oxidische Schichten, Oxidelektronik, Oxidische Substrate, Crystal Growth |
Aktuelle Kontaktadresse
| Land | USA |
|---|---|
| Ort | Ithaca |
| Universität/Institution | Cornell University |
| Institut/Abteilung | Department of Materials Science and Engineering |
| Website | http://www.ems.psu.edu/~schlom/ |
Gastgeber*innen während der Förderung
| Prof. Dr. Jochen Mannhart | Institut für Physik, Universität Augsburg, Augsburg |
|---|---|
| Prof. Dr. Jochen Mannhart | Abteilung Experimentelle Physik, Max-Planck-Institut für Festkörperforschung, Stuttgart |
| Prof. Dr. Thomas Schroeder | Leibniz-Institut für Kristallzüchtung (IKZ), Berlin |
| Beginn der ersten Förderung | 01.08.1999 |
Programm(e)
| 1999 | Humboldt-Forschungsstipendien-Programm |
|---|---|
| 2018 | Humboldt-Forschungspreis-Programm für Naturwissenschaftler*innen aus den USA |
Projektbeschreibung der*des Nominierenden
| Professor Schlom is a world leader in utilizing molecular-beam epitaxy to create new oxide materials that do not exist in nature. He does this by customizing the structure of oxides at the atomic-layer level. Professor Schlom’s pioneering contributions propelled molecular-beam epitaxy to become a superb method for the preparation of atomically precise, oxide heterostructures with high purity, high mobility, high crystalline perfection, and exquisite control of layer thickness. In Germany, Professor Schlom intends to further advance heterostructure growth of complex oxides by designing and growing novel oxide crystals to be used as substrates. |