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Profil
| Derzeitige Stellung | Post Doc |
|---|---|
| Fachgebiet | Chemische und Thermische Verfahrenstechnik,Energieverfahrenstechnik (einschließlich Kerntechnik/-energie) |
| Keywords | Area-Selective Deposition (ASD), Atomic Layer Deposition (ALD), Precursor and Process Design, Life Cycle Assessment (LCA), Sustainable Semiconductor Manufacturing |
Aktuelle Kontaktadresse
| Land | Deutschland |
|---|---|
| Ort | Dresden |
Gastgeber*innen während der Förderung
| Prof. Dr. Dr. h.c. Anjana Devi | Institut für Materialchemie, Leibniz-Institut für Festkörper- und Werkstoffforschung Dresden (IFW) e.V., Dresden |
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Programm(e)
| 2026 | Humboldt-Forschungsstipendien-Programm für Postdocs (1.000-Köpfe-Plus-Programm) |
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