Dr. Thai Ngan Do

Profil

Derzeitige StellungPost Doc
FachgebietChemische und Thermische Verfahrenstechnik,Energieverfahrenstechnik (einschließlich Kerntechnik/-energie)
KeywordsArea-Selective Deposition (ASD), Atomic Layer Deposition (ALD), Precursor and Process Design, Life Cycle Assessment (LCA), Sustainable Semiconductor Manufacturing

Aktuelle Kontaktadresse

LandDeutschland
OrtDresden

Gastgeber*innen während der Förderung

Prof. Dr. Dr. h.c. Anjana DeviInstitut für Materialchemie, Leibniz-Institut für Festkörper- und Werkstoffforschung Dresden (IFW) e.V., Dresden

Programm(e)

2026Humboldt-Forschungsstipendien-Programm für Postdocs (1.000-Köpfe-Plus-Programm)