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- {{#headlines}}
- {{title}} {{/headlines}}
Aktuelle Kontaktadresse
| Land | China, VR |
|---|---|
| Ort | Shanghai |
| Universität/Institution | Fudan University |
| Institut/Abteilung | Department of Microelectronics |
Profil
| Fachgebiet | Elektronische Halbleiter, Bauelemente und Schaltungen, Integrierte Systeme, Sensorik, Theoretische Elektrotechnik,Werkstofftechnik |
|---|---|
| Keywords | Atomic layer deposition (ALD) technique, Non-volatile memory technology, High-k dielectric/Metal gate stack, Low-k material and copper integration, MIM capacitors for RF and mixed signal application |