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Profil
| Derzeitige Stellung | Professor W-3 und Äquivalente |
|---|---|
| Fachgebiet | Präparative und Physikalische Chemie von Polymeren |
| Keywords | CVD, block copolymers, lithography, microelectronics, biomaterials |
Aktuelle Kontaktadresse
| Land | USA |
|---|---|
| Ort | Ithaca |
| Universität/Institution | Cornell University |
| Institut/Abteilung | Materials Science & Engineering Department |
| Website | www.ccmr.cornell.edu/~cober/ |
Gastgeber*innen während der Förderung
| Prof. Dr. Gerhard Wegner | Abteilung Chemie der Polymere, Max-Planck-Institut für Polymerforschung, Mainz |
|---|---|
| Prof. Dr. Georg Krausch | Lehrstuhl für Physikalische Chemie II, Universität Bayreuth, Bayreuth |
| Prof. Dr. Hans-Werner Schmidt | Lehrstuhl für Makromolekulare Chemie I, Universität Bayreuth, Bayreuth |
| Prof. Dr. Jürgen Rühe | Institut für Mikrosystemtechnik (IMTEK), Albert-Ludwigs-Universität Freiburg, Freiburg |
| Beginn der ersten Förderung | 01.07.1993 |
Programm(e)
| 1993 | Humboldt-Forschungsstipendien-Programm |
|---|---|
| 2006 | Humboldt-Forschungspreis-Programm für Naturwissenschaftler*innen aus den USA |
Projektbeschreibung der*des Nominierenden
| Professor Ober is one of the very active international leaders in the field of applied polymer materials science. He has made significant contributions in the field of liquid crystalline polymers, block copolymers and lithographic processes. Professor Ober's recent fundamental studies on the convergence of self-assembly and photolithographic processes are expected to have future impact on applications in photonics, nanotechnology and biotechnology. While in Germany, he conducts in the area of novel lithographic processes for complex nanostructures. |
Publikationen (Auswahl)
| 2008 | Frauke Pfeiffer, Nelson M. Felix, Christian Neuber, Christopher K. Ober, and Hans-Werner Schmidt: Towards Environmentally Friendly, Dry Deposited, Water Developable Molecular Glass Photoresists. In: Physical Chemistry Chemical Physics, 2008, 1257-1262 |
|---|---|
| 2007 | Frauke Pfeiffer, Nelson Felix, Christian Neuber, Christopher K. Ober, Hans-Werner Schmidt,: Physical Vapor Deposition of Chemically Amplified Photoresists: A New Route to Patterning Molecular Glass Resists. In: Advanced Functional Materials, 2007, 2336-2342 |