Dr. Leopold Scheffler

Profil

Derzeitige StellungPost Doc
FachgebietHalbleiterphysik
KeywordsPhotoluminescence, Nanocrystals, Silicon Photonics, DLTS, Electrical Characterization

Aktuelle Kontaktadresse

LandDeutschland
OrtDresden
Universität/InstitutionAdvanced Mask Technology Center GmbH & Co. KG

Gastgeber*innen während der Förderung

Prof. Dr. Klaus MoelmerInstitute of Physics and Astronomy, Aarhus University, Aarhus C
Beginn der ersten Förderung01.08.2017

Programm(e)

2017Feodor Lynen-Forschungsstipendien-Programm für Postdocs

Publikationen (Auswahl)

2019I Boturchuk, L Scheffler, A Nylandsted Larsen, B Julsgaard: Anomalous behavior of electrically active defects near EC?0.5 eV in MOCVD, as-grown GaN. In: AIP Advances, 2019, 025322
2019Leopold Scheffler, Søren Roesgaard, John Lundsgaard Hansen, Arne Nylandsted Larsen, Brian Julsgaard: Tin-based donors in SiSn alloys. In: Journal of Applied Physics, 2019, 035702
2018L Scheffler, M J Haastrup, S Roesgaard, J L Hansen, A Nylandsted Larsen, B Julsgaard: Embedded tin nanocrystals in silicon - an electrical characterization. In: Nanotechnology, 2018, 05570